国家知识产权局信息数据显现，盛美半导体设备（上海）股份有限公司请求一项名为“清洁体系及退火设备”的专利，公开号CN121222752A，请求日期为2024年6月。
专利摘要显现，本发明公开了一种清洁体系及退火设备，清洁体系包含冷盘、冷却管路、检测元件、管路清洗机和操控器，冷盘用于放置基板；冷却管路用于对基板进行冷却；检测元件用于实时检测冷却管路中的工艺参数，并输出工艺参数的检测信号；管路清洗机与冷却管路衔接，用于对冷却管路进行清洁；操控器别离与检测元件和管路清洗机通讯衔接，用于接纳检测信号，并依据检测信号操控管路清洗机对冷却管路进行清洁。本发明能够在必定程度上完结冷却管路的主动清洁。
天眼查资料显现，盛美半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2005年，坐落上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本47989.2514万人民币。经过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外出资了16家企业，参加招投标项目171次，产业线条，此外企业还具有行政许可31个。
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